Новый материал для формирования рисунка схемы слоев многослойных печатных плат внедрен на АПЗ
Как сообщает пресс-служба Арзамасского приборостроительного завода, формирование рисунка
схемы слоев на фольгированном стеклотекстолите – один из основных процессов при изготовлении многослойных плат, обеспечивающий надежность межслойных соединений в готовой плате.
По словам начальника техбюро цеха №19 Ларисы Поляковой, нанесение фоторезиста на заготовку производится ламинированием на горячих валиках установки. Фоторезист, сверхчувствительный и устойчивый материал, при сцеплении с медной поверхностью обеспечивает ее защиту на всех стадиях фотолитографии и во всех химических растворах.
Точность выполнения фотолитографических процессов находится в пределах сотых долей миллиметра. Толщина фоторезиста является ключевым параметром при формировании рисунка слоев.
Новый материал – сухой пленочный фоторезист – был предварительно опробован в цехе на целой линейке оборудования (ламинаторе, установках проявления, экспонирования, травления, раздубливания) и благодаря небольшой толщине в 30 микрон продемонстрировал высокую разрешающую способность, термо- и гальваностойкость, а также стойкость в определенных
химических растворах.
"Результаты опытных работ показали целесообразность использованиянового материала, а его внедрение в производство позволяет говорить о значительном повышении качества рисунка схемы слоев многослойных печатных плат", – отмечает начальник цеха Александр Швецов.