В России готовятся к созданию собственного литографа под нормы 90 нм
В России в 2026 году планируют начать разработку литографа для производства микросхем по нормам 90 нм. Об этом, по данным CNews, заявил замминистра промышленности Василий Шпак на XXI отраслевой научно-технической конференции радиоэлектронной промышленности 20 марта. Исполнителя проекта выберут по итогам конкурса.
Одним из вероятных участников называют Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ), который уже работает над литографами на 350 и 130 нм совместно с белорусским «Планаром». При этом в ЗНТЦ сообщили, что пока не решили, будут ли участвовать в новом конкурсе, так как рассчитывают завершить разработку 130-нм степпера в ноябре 2026 года.
По оценкам экспертов, создание 90-нм литографа на базе уже существующей платформы может занять 2-4 года и потребовать сотни миллионов долларов. Отмечается, что ключевые сложности связаны не только с самой установкой, но и с доступностью оптики, фотошаблонов, материалов и инженерных компетенций.
Сейчас в России завершена разработка литографа на 350 нм и продолжается работа над установкой, позволяющей производить чипы по техпроцессу 130 нм. Ожидается, что стоимость такой установки составит примерно 6 млн долларов, она позволит выпускать 100–140 пластин в час.