Российский литографический сканер на 193 нм появится через два года

Российская академия наук (РАН) планирует в ближайшие два года разработать литографический сканер с длиной волны 193 нанометра. Как заявил президент РАН Геннадий Красников, это оборудование необходимо для производства современных микросхем, включая чипы до 5 нм.

Сейчас в России уже есть сканеры на 350 нм, созданные совместно с Белоруссией, а также проходит испытания модель на 248 нм. Новая разработка станет следующим шагом, позволяя сокращать технологический процесс до 90 нм и ниже. По словам Красникова, длина волны 193 нм перспективна — на ее основе выпускают даже самые передовые чипы.

Литографические сканеры — ключевое оборудование для создания микроэлектроники. Сегодня их производят единицы компаний в мире, включая нидерландскую ASML, японские Canon и Nikon. Российские сканеры на 350 нм, хотя и считаются устаревшими, все еще применяются в автомобилестроении, энергетике и телекоммуникациях.